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  • 20243-12
    新產品發布-高壓開關斷路器滅弧實驗裝置

    鄭州科探新產品發布-開斷放電實驗裝置這款高壓開關斷路器滅弧實驗裝置采用不銹鋼腔體設計,確保了設備的穩定性和耐用性。其最大允許壓力達到了0.3MPa,同時能夠承受高達50KV的最大電壓,足以滿足高壓電路斷開實驗的需求。該實驗裝置具備可更換的電極設計,使得用戶能夠根據不同實驗需求選擇合適的電極,實現了對實驗參數的靈活調整。此外,配備了電控推拉桿,可控的斷開速度,使得實驗過程更加精準和可控。推桿行程為140mm,為用戶提供了更加多樣化的實驗選擇。該裝置還配備了前后透明窗口,方便用戶...

  • 20241-25
    一英寸探針臺重大升級

    一英寸探針臺重大升級近期公司推出新品一英寸探針臺,針對老產品持續優化1、滑塊精度提高,控制更加精確,操作方便2、顯微鏡支架升級為一體,使用面包板,使得更加牢固,3、增加316球閥進氣口,耐腐蝕,不漏氣4、溫度提高了pid參數,精度從±0.1升級到±0.5,更度更高,測試結果更加準確5、探針升級,絕緣優化,性能穩定,探針間不易發生短路,提高了PCB測試的可靠性

  • 202312-26
    半導體制冷臺的工作過程可以分為四個主要階段

    半導體制冷臺的工作過程可以分為四個主要階段:起始階段、正向運行階段、穩態工作階段和反向運行階段。在起始階段,冷端的溫度較高,熱端的溫度較低。然而,由于這兩端之間的溫度差異不足以產生足夠的電壓差,導致無法維持制冷效果。因此,此階段需要其他制冷設備或方法進行預冷。在正向運行階段,冷端的溫度下降,熱端的溫度上升,電流流經熱電堆,產生一定的制冷效果。溫度差異逐漸加大。在穩態工作階段,冷端達到了所需的溫度,并且熱端的溫度也相應達到了一定的高溫,設備可以長時間維持制冷狀態。在反向運行階段...

  • 202312-25
    新品發布!顯微鏡支架

    近期我司新推出了顯微鏡支架產品,設計簡單、功能齊全,是一種降低成本的新型支架。平滑的水平移動非常適合大范圍觀察。作為機器或設備的光學設定規,顯微鏡可以從磁性固定位置水平滑動以進行觀察。此外,一旦觀看完畢,該裝置可以輕松返回到原來的位置,不妨礙工作。定位銷和限位器功能考慮了重復運動的再現性。這是一個方便使用的支架探針臺顯微鏡支架是探針臺的一部分,它支撐并固定顯微鏡,使顯微鏡能夠進行精密操作。該支架有以下主要功能:穩定性:為顯微鏡提供穩定的支撐,確保在測試過程中顯微鏡不會發生移動...

  • 202312-8
    半導體制冷臺是種基于熱電效應的制冷設備

    半導體制冷臺(也稱為熱電制冷臺)是一種基于熱電效應的制冷設備,它通過將電能轉化為熱能和冷能,實現制冷效果。當一個電流經過兩個不同材料的接觸面時,產生的熱流量將會引起溫度差異,從而產生熱電效應。這被稱為Seebeck效應。Seebeck效應的基本原理是,在兩個不同材料交界處,電子會從能級較高的材料流向能級較低的材料,從而產生電壓差。一般由三個主要部分組成:冷端、熱端和電源。冷端由多個P型和N型的半導體材料連接而成,形成了一個熱電堆。當電源連接到熱電堆時,電流通過堆,通過Seeb...

  • 202311-7
    小型蒸鍍儀的市場現狀如下

    小型蒸鍍儀在材料科學和工程領域中發揮著重要作用,廣泛應用于微電子、光電子、材料科學等領域。熱蒸發是一種將固態材料迅速加熱并使其轉變為蒸汽的過程。固態材料(如金屬或非金屬)被放置在加熱源中,當加熱源加熱到一定溫度時,該材料開始蒸發。蒸發的材料蒸汽在真空環境中自由擴散,并沉積到待鍍物表面形成薄膜。小型蒸鍍儀常見的應用領域:1.微電子工業:在微電子工業中用于制備集成電路、半導體芯片和顯示器件等。通過在基板上沉積金屬薄膜或半導體材料,可以實現電路的連接和器件性能的改善。2.光電子工業...

  • 202310-27
    新品發布!!1000度高溫真空探針臺!

    【新品發布】——突破極限,1000°高溫探針臺震撼上市!我們非常榮幸地宣布推出全新的1000°高溫探針臺。這款產品是我們經過不懈努力和持續創新的成果,將為您在高溫實驗領域帶來了全新的體驗。1000度高溫真空探針臺(High-TemperatureVacuumProbeStation)主要應用于半導體、材料科學、納米技術、光電子、薄膜技術等領域,具有以下用途:1.半導體器件測試與表征:用于不同溫度下的半導體料件、電子器件和光電子器件的性能測試和分析。2.材料性能表征:研究和測試...

  • 202310-9
    小型濺射儀是種常見的表面處理設備

    小型濺射儀是種常見的表面處理設備,其原理是利用高能離子束轟擊固體材料,以改變其表面性質。主要由濺射靶、工作室、真空系統、控制系統等組成。其中關鍵的部分是濺射靶和工作室。濺射靶材料是由所需要改變其表面性質的物質組成,如金屬、陶瓷等。工作室是一個真空環境,用于避免氧氣、水蒸氣等對濺射過程的干擾。在工作時,首先需要將工作室抽成高真空狀態。通過真空泵抽取工作室內的氣體,減少對離子束的干擾。接下來,將濺射靶放置在工作室內,并將需要處理的物體(如基板)放在靶的正對方向。然后,靶與工作室中...

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