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三氧化二鋁磁控濺射儀KT-Z1650PVD為臺式磁控濺射鍍膜機(jī)在較短時間內(nèi)即可形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜。儀器結(jié)構(gòu)緊湊，全自動控制。利用直流磁控濺射和射頻磁控濺射技術(shù)，進(jìn)行某傳感器基底Al2O3薄膜絕緣層的制備工藝及性能研究，對于指導(dǎo)薄膜傳感器工藝設(shè)計及應(yīng)用的快速發(fā)展，具有十分重要的理論意義及較好的工程應(yīng)用價值。

小型離子濺射儀 鄭州 科探KT-Z1650PVD在磁控濺射中，由于運(yùn)動電子在磁場中受到洛侖茲力，它們的運(yùn)動軌跡會發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運(yùn)動，其運(yùn)動路徑變長，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù)，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作。

小型濺射儀鄭州科探KT-Z1650PVD，能夠在非導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au / Pd）的薄膜。 在較短時間內(nèi)即可形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜，使樣品適用于掃描電子顯微鏡（SEM）分析。儀器結(jié)構(gòu)緊湊，全自動控制，設(shè)計符合人體工程學(xué)，所得結(jié)果一致，可重復(fù)性高。

小型離子濺射儀 鄭州科探儀器 噴金儀 廠家供應(yīng)通過定時調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜

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