一、產(chǎn)品應(yīng)用原理：
（1）等離子清洗 射頻清洗機(jī) 光刻膠清洗屬于13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)等。  

（2）該清洗機(jī)內(nèi)置不高純石英倉體，容積為2升，結(jié)構(gòu)為上的通用結(jié)構(gòu)。采用了新型的外觀結(jié)構(gòu)設(shè)計和固態(tài)電源技術(shù)，使其有效容積增大，不同真空氣體環(huán)境下容易匹配，且控制頻率穩(wěn)定。真空倉門有觀察窗，可直觀物體的處理過程，其射頻電源與控制都組裝在一個機(jī)箱內(nèi)，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時與大型清洗機(jī)相比較，從檢測功能與控制功能的設(shè)置上均可一個面板上操作，特別適用科學(xué)實(shí)驗(yàn)樣品清洗和教學(xué)。  

（3）KT-S2DQX型等離子清洗機(jī)電源屬于150W13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)等。  

二、作用過程：
（1）該低溫表面等離子清洗 射頻清洗機(jī) 光刻膠清洗內(nèi)置高純石英倉體，容積為2升。采用了新型的外觀結(jié)構(gòu)設(shè)計和固態(tài)電源技術(shù)，使其有效容積增大，不同真空氣體環(huán)境下容易匹配，且控制頻率穩(wěn)定。
（2）真空倉門有觀察窗，可直觀物體的處理過程，其射頻電源與控制都組裝在一個機(jī)箱內(nèi)，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時與大型清洗機(jī)相比較，從檢測功能與控制功能的設(shè)置上均可一個面板上操作，特別適用科學(xué)實(shí)驗(yàn)樣品清洗和教學(xué)。